酸性鍍鎳的成分及其控制方法
來源: | 作者:architecture-100 | 發布時間: 2014-10-13 | 846 次瀏覽 | 分享到:
酸鎳缸的一大特點:非常容易受到雜質的影響。平時應注意檢查是否有鍍件,金屬屑掉入槽中。鋅雜質會使低區發黑。可使用除鋅劑,或者電解的方法除雜:放無用鐵件入滾筒,小電流電解。時間可能需要幾個小時,直到除雜用鐵件發白,即表示鋅雜質除干凈。鐵雜質在鎳缸中與鎳共沉積,導致鍍層脆性,可采用雙氧水將二價鐵氧化成三價鐵,調PH值到5.4后沉淀過濾除雜。銅雜質可以用電解或者除銅劑除去。金華東威的鎳光劑中含有少量除雜成分,在一定范圍內可以除去雜質,保證鍍液穩定。


酸性鍍鎳又名瓦特鎳,是美國科學家瓦特于1916年發明的電鍍方法,一直沿用至今。它主要有以下幾種成分:

    1.硫酸鎳(主鹽)----150~200g/L

    硫酸鎳主要為溶液中提供鎳離子,含量太高會導致分散能力下降,影響走位。含量低則允許使用的陰極電流密度降低,電鍍較慢。快速鍍鎳的主鹽濃度較高,但帶出損耗也較大。一般掛鍍硫酸鎳含量可高一些,滾鍍開缸硫酸鎳稍低,珍珠鎳則要求硫酸鎳含量較高,在400g/L以上。

    2.氯化鎳(導電鹽)----40~60g/L

    氯化鎳的主要作用是增加溶液的導電性,從而增加鍍液的均鍍能力。氯離子同時具有活化陽極的作用,少的時候陽極呈褐色。

    氯化鈉也具有同樣作用,只是無法提供鎳離子,實際生產中采用氯化鈉替代氯化鎳時,硫酸鎳的開缸量需要提高。值得注意的是,鈉離子過高會引起鍍層脆性。

    因此,珍珠鎳的氯化鎳含量不能太高。

    3.硼酸(緩沖劑)----35~50g/L

    硼酸能夠維持PH值在4.2-5.1的范圍內穩定,同時起白亮鍍層作用。硼酸低,PH值高時容易產生黃斑。硼酸過高容易析出,影響光亮度。

    4.主光劑(光亮,整平作用)----0.5ml/L

    起光亮及整平作用,主光劑少的時候亮度不夠,填平不好;過多的時候低區發黑,走位不好,甚至出現漏鍍現象。霍爾槽打片會出現“氣道”及低區等極化較低位置發黑。

    金華東威與南方化工合作,生產各種鍍鎳中間體及鎳光亮劑,質優價好,2017年推出了超強納米高整平中間體PPD,用在主光劑中,替代PPS整平作用,品質更上一層樓。其他主光劑中間體產品PPS、PPSOH、MPA、PME、BEO、POPDH、PHX、PAP、PABS、DEP等。

    5.柔軟劑(走位作用)----10ml/L

    起走位和柔軟作用,金華東威的柔軟劑兼具濕潤劑功能,可防止針孔產生。柔軟劑少導致走位不好,高區白霧;柔軟劑太多,光亮度下降。

    實際操作中,應少加勤加,一般每一槽鍍件添加一次主光劑及柔軟劑。

    金華東威的主要鍍鎳柔軟劑中間體產品PS、VS、ALS、TPP、SSO3、PN、ATP、EHS、TC-EHS特色產品808、NS1、EX8、EX3、EX5、EX6等。

    6.溫度50~60℃

    溫度高,降低極化,分散能力下降。哈氏片高區易發霧。溫度低將會影響電流效率。

    7.PH4.2-5.1

    PH值偏低4.2~4.5上鍍較慢,光亮較好,主光劑消耗較多,鍍層脆性少。偏高走位好,上鍍較快,光亮劑消耗慢一些。

    8.陽極:使用鎳板

    9.攪拌方式:

    掛鍍空氣攪拌,滾鍍由于滾筒的攪拌作用,不需空氣攪拌,但是應盡量采取辦法加快滾筒內鍍液的更新,例如循環過濾,滾筒內噴嘴等。

    10.雜質影響:

    酸鎳缸的一大特點:非常容易受到雜質的影響。平時應注意檢查是否有鍍件,金屬屑掉入槽中。

    鋅雜質會使低區發黑。可使用除鋅劑,或者電解的方法除雜:放無用鐵件入滾筒,小電流電解。時間可能需要幾個小時,直到除雜用鐵件發白,即表示鋅雜質除干凈。鐵雜質在鎳缸中與鎳共沉積,導致鍍層脆性,可采用雙氧水將二價鐵氧化成三價鐵,調PH值到5.4后沉淀過濾除雜。銅雜質可以用電解或者除銅劑除去。金華東威的鎳光劑中含有少量除雜成分,在一定范圍內可以除去雜質,保證鍍液穩定。

    鍍壞的鍍件如果起泡,就要退掉銅層,重新電鍍。如果沒有起泡,可直接鍍鎳。

    鐵件和銅件可直接鍍鎳。黃銅件因為是銅鋅合金,所以需要打堿銅底后再鍍鎳,以防止鋅雜質溶解于缸中。


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